锗晶片表面清洗研究进展

摘要：

论述了锗晶片的表面氧化机理及锗晶片表面清洗的不同方法,其中,锗晶片的清洗主要包括干法清洗和湿法清洗两种,不同清洗方法对锗表面的影响采用了XPS,AFM进行了表征.并对未来锗清洗技术的发展进行了展望.

关键词：锗晶片、表面清洗、表面氧化层

所属期刊栏目：47

分类号：TN305.97(半导体技术)

在线出版日期：2018-05-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：36-39