全自动磁控溅射镀膜设备及工艺的研究

摘要：

溅射镀膜作为薄膜混合集成电路的重要环节,在厂商要求保证工艺质量的前提下,希望提高设备的自动化程度,减少靶间污染.介绍了一种用于磁控溅射镀膜设备,着重介绍了该系统关键部件溅射镀膜腔室和真空机械手腔室;该系统结构简单,控制效果良好,通过对工艺的研究,该系统能满足生产线的生产要求.

关键词：磁控溅射、磁控溅射靶、机械手

所属期刊栏目：47

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2018-04-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：21-24