单面研磨抛光晶片研磨一致性研究

摘要：

针对LED衬底材料蓝宝石在单面研磨抛过程存在的研磨一致性问题.从运动学理论出发,计算陶瓷盘上任意点的绝对运动方程;通过计算公式来判断任意点的研磨速度;揭示了研磨(抛光)盘和研磨(抛光)头角速度的变化对蓝宝石晶片研磨一致性的影响.

关键词：蓝宝石、研磨抛、一致性、运动方程、单面

所属期刊栏目：46

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2017-10-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：24-25,55