光刻机光强影响因素分析

摘要：

曝光系统是接触接近式光刻机的核心部件,系统的曝光强度对光刻工艺有很大的影响.通过对曝光光路系统进行详细分析,对影响光强的各种因素进行了论述和计算,为进一步改善曝光系统光强指明了方向.

关键词：光刻机、曝光系统、曝光强度

所属期刊栏目：46

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2017-10-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：18-21