接触接近式光刻机微力找平技术

摘要：

介绍了一种微力找平技术,该技术应用气缸及间隙找平机构,可满足厚胶光刻工艺要求.

关键词：光刻机、微力找平、厚胶光刻

所属期刊栏目：45

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2017-02-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：26-28