单晶硅抛光片表面质量探究

摘要：

LED集成度越来越高,集成电路线宽不断收窄,对硅衬底表面的质量提出了越来越严苛的要求,抛光片表面质量对器件制造有重要影响.RCA清洗是晶片清洗最为成熟的工艺,其工艺稳定性受到多重因素影响.从DHF溶液使用及PFA花篮质量两方面分析了RCA清洗过程的两个关键因素对晶片表面质量的影响.

关键词：清洗技术、花篮、氢氟酸、颗粒度

所属期刊栏目：45

分类号：TN305.2(半导体技术)

在线出版日期：2017-04-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：27-29,44