10.3969/j.issn.1004-4507.2016.07.004
低压扩散机理及其对扩散方阻均匀性的影响研究
传统的太阳能电池扩散工艺采用常压扩散,随着高效晶硅电池的发展,扩散结深的不断变浅,常压扩散已难以满足晶体硅太阳能电池高效、低成本发展的技术要求.低压扩散通过在反应管内提供低压工艺环境,提升扩散制结的性能.通过对低压扩散机理的详细分析,从扩散分子自由程、掺杂原子分压比和气场均匀性等方面详细分析了低压扩散对高方阻均匀性的影响关系.采用新型低压扩散炉进行工艺实验测试,结果表明,低压扩散在可达到扩散方阻目标值110Ω时获得更好的均匀性,载片量较常压扩散大幅度提升,具有无可比拟的生产优势,是未来扩散技术的主要发展方向.
低压扩散、高方阻、均匀性
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TN305.4(半导体技术)
2016-09-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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