基于气体分析的工艺诊断技术

摘要：

半导体制程中的扩散炉、氧化炉、真空炉、真空镀膜等设备，因其工艺过程复杂、工艺影响因素多而带来诸多的不确定性。本文阐述的是一种基于气体分析的工艺诊断技术，该技术通过分析反应腔内气体对工艺进行实时监控，以达到工艺过程分析、减少工艺诊断时间，并最终达到提高工艺质量和减少设备停机时间的目的。

关键词：半导体制程、气体分析、工艺诊断技术

分类号：TM615(发电、发电厂)

在线出版日期：2016-07-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：13-15