光刻机调平调焦台精度指标分解方法研究

摘要：

为了提高光刻机调平调焦台的重复定位精度,对其调平调焦台的精度指标分解开展研究.首先,应用几何关系,建立调平调焦总指标与逻辑轴之间的关系;再应用运动学原理,建立调平调焦台通用机构的逻辑轴和物理轴之间的运动关系;接着,应用函数误差原理,建立调平调焦台的精度指标分解模型.然后,采用压电陶瓷作为驱动、柔性簧片作为导向、压电陶瓷内置电容作为传感器搭建重复定位精度要求为100 nm的实验测试平台;最后实验测试平台测试结果显示,定位精度可达到90 nm,从而验证了该光刻机调平调焦台精度指标分解模型的正确性.

关键词：光刻机、调平调焦台、精度指标分解、函数误差原理

所属期刊栏目：45

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2016-04-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：15-18,23