期刊专题

10.3969/j.issn.1004-4507.2015.04.007

双面光刻机运动控制系统设计分析

引用
针对双面光刻机运动控制需求,提出模块化的设计方案,重点分析了对准工作台PID 调节方法,实现了高动态响应、高精度运动控制。

双面光刻机、运动控制、PID 控制

TN305(半导体技术)

2015-05-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

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电子工业专用设备

1004-4507

62-1077/TN

2015,(4)

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
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