光刻机双面对准精度测量系统

摘要：

双面对准精度是接触接近式光刻机的关键性能指标，介绍了一种检测此项指标的测量原理及应用该原理研制的双面对准精度测量系统，并对设备的部件构成及控制流程作了叙述。设备实际验证了检测原理，对50、75、100及150 mm圆形基片均可适用。

关键词：测试测量技术、光刻机、双面对准精度、双面对准精度测量系统

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2015-04-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：42-45