期刊专题

10.3969/j.issn.1004-4507.2014.08.001

光刻机照明系统专利分析

引用
为了解光刻机照明系统的技术发展方向和技术研究热点及技术成熟度,并为科研人员提供技术参考,对光刻机照明系统技术专利文献进行了检索,并对专利文献数据进行了统计分析,分别从专利权人分布、国际专利分类号分布、专利申请国分布和年度发展趋势及技术生命周期等几个方面进行统计分析,揭示了国内外光刻机照明系统专利申请的主要专利权人依次为阿斯麦、尼康、佳能和蔡司,专利文件分布的主要技术领域为半导体器件和其部件的制造处理等方面,专利文件的年度申请在2004年出现最高峰,之后开始下降,并结合技术生命周期曲线图,指出光刻机照明系统技术已经历了从萌芽、发展、成熟阶段.同时进行了重要专利文件的挖掘,分析了技术研究热点,追踪核心专利文件的技术发展脉络;并对偏振照明技术作出技术—功效矩阵分析图,分析出技术研究热点,并提出我国科研人员应利用未在我国进行保护的重要专利技术,为我国企业提出了专利申请的相关建议,节省研发时间.

光刻机、照明系统、专利分析、专利统计

N18(专利)

2014-10-22(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共8页

1-7,19

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电子工业专用设备

1004-4507

62-1077/TN

2014,(8)

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

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