半导体晶圆的污染杂质及清洗技术

摘要：

介绍了半导体圆片存在的各种污染杂质的类型和去除方法,并概要总结了半导体圆片的清洗技术,对半导体圆片的湿法和干法清洗特点和去除效果进行了比较分析.

关键词：污染杂质、半导体、湿法清洗、干法清洗

所属期刊栏目：43

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2014-10-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：18-21