期刊专题

10.3969/j.issn.1004-4507.2014.06.004

移动式硅片退火设备的研制

引用
对硅片退火设备的结构及功能进行了大量的改进,介绍了设备的工作原理、结构特点及达到的技术指标。研究了硅片在真空炉中的退火工艺。该设备的研究提升了硅片退火处理的稳定性及工艺性,达到了工艺要求的效果。

硅片、退火、真空炉

TN305(半导体技术)

2014-07-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

16-18,31

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电子工业专用设备

1004-4507

62-1077/TN

2014,(6)

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