ASML扫描机与NIKON步进机的匹配技术

摘要：

如何实现PA S 扫描机与N SR 步进机混合匹配，从匹配的可行性、匹配步骤、匹配精度控制、匹配校准问题进行分析，最终实现PA S5500/700与N SR 2205i12之间的匹配和混合光刻技术，包括：（1）PA S 扫描机与N SR 步进机系统的匹配目的；（2）PA S 扫描机与N SR 步进机系统的匹配步骤；（3）PA S 扫描机与N SR 步进机系统的匹配参数调整；（4）PA S 扫描机与N SR 步进机系统的匹配校准；（5）PA S 扫描机与N SR 步进机系统的匹配试验过程及结果；（6）PA S 扫描机与N SR 步进机系统的匹配结论。
<br>　　该技术已成功地应用于高性能集成电路器件的研制和生产，实现了180 nm 线宽和350 nm线宽工艺的稳定匹配曝光。

关键词：光刻技术、匹配校准、对准技术、匹配光刻技术

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2014-07-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共10页

页码：3-11,42