LPVCD的原理与故障分析

摘要：

文中介绍了CVD工艺的种类和特点.以LPVCD为例,介绍了其工艺的基本原理,以及设备的基本结构.根据多年的设备维护经验,分析了LPCVD设备的常见问题,提出了处理措施.最后,总结出了LPCVD设备的工艺维护方法.

关键词：化学气相淀积、低压化学气相沉积、故障分析、工艺维护

分类号：TN304.055(半导体技术)

在线出版日期：2014-07-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：15-18