设计模式在光刻版清洗系统软件设计中的应用

摘要：

设计模式代表了成功的可复用的优秀设计经验，在系统设计中引入设计模式将有效地提高系统的可扩展性和可维护性。在光刻版清洗系统软件设计中引入了设计模式，介绍了设计模式的概念及使用，描述了单件模式，策略模式和适配器模式在光刻版清洗系统软件设计中的应用。经实践检验，设计模式的应用，增强了设计的灵活性，提高了软件的可扩展性和复用性。该方法具有较高的理论和实践意义。

关键词：光刻版清洗系统、设计模式、软件设计

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2014-11-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：38-41