全自动光刻版清洗机工艺原理与工作过程介绍

摘要：

介绍了常用的光刻版清洗工艺,并详细讲解了全自动光刻版清洗机的工作过程.同时,简单介绍了为提高光刻版清洗效果而设计的浸泡系统、药液供给与循环系统和温控系统.

关键词：半导体、光刻版清洗、单晶圆清洗、自动设备

所属期刊栏目：43

分类号：TN305.97(半导体技术)

在线出版日期：2014-05-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：23-27,37