光刻机自动对准工作台控制系统设计

摘要：

光刻机自动对准工作台是光刻机的核心执行功能部件，直接影响着光刻机找平、锁紧、微分离、自动对准执行等关键功能动作；结构设计紧凑精巧，包含复杂气动控制和高速、精密运动控制。运动控制的精度决定着对准精度，目前接触接近式掩模光刻机的对准精度达到0.5μm ，因此工作台运动控制的精度应小于0.5μm。

关键词：掩模光刻机、工作台、控制系统

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2014-02-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：42-44,56