抛光片IPA干燥技术研究

摘要：

以Marangoni效应为基础的IPA干燥技术在衬底抛光片的干燥中遇到了瓶颈,即干燥后出现水痕缺陷.Marangoni干燥过程中,抛光片表面的水符合重力场下的杨方程模型,其脱离效果与晶片提拉速率和IPA流量密切相关.研究中发现,IPA流量在20 L/min、提拉速率在1 mm/s时干燥效果最佳;另外,Marangoni干燥过程不能完全去除晶片底部的残水,需要营造合适的蒸发环境,减压排风下供给适量的IPA蒸汽有助于底部残水的去除.晶片与花篮在干燥过程中有相互影响,完全分离的模式可以消除这种影响,但同时会使干燥时间增长.

关键词：异丙醇、马兰戈尼、底部残水、水痕

所属期刊栏目：42

分类号：TN305.97(半导体技术)

在线出版日期：2014-03-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：22-25