光刻版清洗工艺及设备研究

摘要：

光刻版的洁净程度直接影响到光刻的效果,定期对光刻版进行清洗是保证光刻版洁净的必要手段.根据光刻版污染物的特点介绍了多种光刻版清洗工艺及相关设备的种类及组成,最后通过试验考查了工艺设备的使用效果.

关键词：光刻版、清洗、工艺设备

所属期刊栏目：42

分类号：TN305.97(半导体技术)

在线出版日期：2014-02-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：9-11,62