期刊专题

10.3969/j.issn.1004-4507.2013.09.001

Si1-xGex单晶用热系统改进

引用
阐述了对原GaAs单晶拉制用LEC单晶炉热系统进行改造使其适于Si1-xGex单晶生长的过程.借助数值模拟的方法分析了晶体生长区域内的温度分布情况,并通过分析发现了原有热系统的不足.重新对原热系统进行了改造,添加了起到保温和氩气导流作用的热屏和上保温装置,使原来的敞开式热场变为密闭式热场,满足了Si1-xGex单晶拉制的要求.通过具体实验和数值模拟结合,分析了氩气流场及不同流场对晶体生长的影响,发现并改进了单晶炉的氩气供给装置存在的问题.

数值模拟、Si1-xGex单晶、热屏、氩气流场

42

TN304.9(半导体技术)

天津市自然科学基金10JCYBJC01000

2014-01-02(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

1-4,38

暂无封面信息
查看本期封面目录

电子工业专用设备

1004-4507

62-1077/TN

42

2013,42(9)

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn