单晶片清洗设备化学药液温度控制系统研制

摘要：

针对300mm单晶片清洗设备，设计开发了一套化学药液温度控制系统。由于化学药液传输系统具有大惯性、大时滞、非线性的特点，采用Smith预估法设计了一种温度控制算法；并基于可编程计算机控制器（PCC）设计实现了化学药液温度控制系统。介绍了该控制系统的硬件组成和控制算法设计，实验结果表明该温度控制系统能够满足清洗工艺需求。该系统现已成功应用于自主研发的300mm、65nm铜互连单片清洗设备。

关键词：化学药液传输系统、温度控制、Sm ith预估法、清洗设备

分类号：TP273(自动化技术及设备)

在线出版日期：2013-09-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：30-34,70