10.3969/j.issn.1004-4507.2013.06.015
磁控溅射镀膜的原理与故障分析
介绍了磁控溅射镀膜的种类及特点。以直流磁控溅射为例,介绍了其结构、原理,分析了影响磁控溅射工艺稳定性的因素。最后总结了磁控溅射镀膜工艺中常见的故障以及解决方法。
物理气象淀积、磁控溅射、故障分析、镀膜工艺
TN305.92(半导体技术)
2013-07-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
57-60
10.3969/j.issn.1004-4507.2013.06.015
物理气象淀积、磁控溅射、故障分析、镀膜工艺
TN305.92(半导体技术)
2013-07-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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