CMP抛光液供给及分布系统的研究

摘要：

从整体结构及硬件设计方面介绍了小批量生产及隔膜泵系统，分析隔膜泵的工作原理，循环机理及硬件控制和驱动电路，同时指出在湿度较大的生产厂里面产生的漂移及解决措施；从整体结构分析集中式抛光液供给系统，分析其抛光液混合中心具备的温度控制、无轴承磁悬浮泵工作机理及循环机制；对比隔膜泵与无轴承磁悬浮泵对颗粒凝聚的影响，并分析这种系统适用范围。

关键词：化学机械平坦化、隔膜泵、蠕动泵、无轴承磁悬浮泵、抛光液

分类号：TN305.2(半导体技术)

在线出版日期：2013-07-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：9-12,20