故障树分析法在RIE故障诊断中的应用

摘要：

基于半导体刻蚀技术,对RIE(反应离子刻蚀)的技术原理和等离子启辉原理进行了阐述,概括介绍了故障树分析法,绘制了启辉故障的故障树,分析了造成该故障的各种原因,并根据维修经验介绍了APC(自动压力控制)故障和AMU(自动匹配网络)故障等一些典型因素的处理方法.

关键词：反应离子刻蚀、等离子、故障树、自动压力控制、自动匹配网络

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2013-06-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：62-64