超高真空化学气相沉积外延生长锗硅材料及其应用

摘要：

综述了硅基锗硅薄膜的外延生长技术、设备及其在光电子器件上的应用,其中着重介绍了超高真空化学气相沉积系统(UHVCVD).目前来说,UHVCVD是产业化制备高质量锗硅材料的最佳选择.

关键词：锗硅、外延生长、超高真空化学气相沉积

所属期刊栏目：42

分类号：TN304.054(半导体技术)

在线出版日期：2013-05-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：1-8,23