我国最新一代集成电路制造工艺研发取得突破性进展

摘要：

近年来，我们使用的电脑、手机等速度更快、耗电更省、成本更低，这有赖于集成电路制造工艺的不断进步。中国科学院微电子研究所集成电路先导工艺研发中心在22nm技术代集成电路关键技术研发上取得了突破性进展，掌握这种最先进的集成电路制造工艺将有利于提升我国自主生产制造更加质优价廉的集成电路产品的能力。

关键词：集成电路制造工艺、研发中心、突破性、电子研究所、中国科学院、生产制造、技术、手机

所属期刊栏目：41

分类号：TN405(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2013-02-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共1页

页码：55-55