美开发出无缺陷半导体纳米晶体薄膜
美国麻省理工学院的研究人员利用电子束光刻技术和剥离过程开发出无缺陷半导体纳米晶体薄膜。这是一种很有前途的新材料,可广泛应用并开辟潜在的重点研究领域。
晶体薄膜、过程开发、半导体、无缺陷、纳米、美国麻省理工学院、电子束光刻技术、研究人员
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TB497(工业通用技术与设备)
2012-11-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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晶体薄膜、过程开发、半导体、无缺陷、纳米、美国麻省理工学院、电子束光刻技术、研究人员
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TB497(工业通用技术与设备)
2012-11-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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