影响区熔硅单晶电阻率均匀性的主要因素

摘要：

通过对弯曲的结晶界面的研究,分析其对分凝系数、分凝方向及界面杂质分布的影响;通过改变拉晶参数以改变结晶界面的弯曲程度,减小分凝系数的变化及径向分凝的强度。分析影响电阻率均匀性的主要因素,改变其生产工艺。

关键词：FZ单晶、结晶界面、径向分凝

所属期刊栏目：41

分类号：TN304.1(半导体技术)

在线出版日期：2012-11-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：4-6