CMP设备中抛光垫修整机构的研究

摘要：

介绍了一种新型抛光垫修整机构的功能、结构及运动原理,通过理论计算给出了修整力的计算公式,并介绍了一种原理简单,操作方便的气动控制系统。在工艺试验过程中,充分证明了其结构原理及控制系统的合理性,进而在理论和实践两个方面确定了该机构已达到设计要求。

关键词：抛光垫修整机构、修整力、气动控制系统

所属期刊栏目：41

分类号：TN305.2(半导体技术)

资助基金：基金项目:国家02重大专项2009ZX02011-005A

在线出版日期：2012-11-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1-3,30