投影光刻中非对称型相位光栅对准信号及对准误差计算模型

摘要：

在半导体投影光刻机中,对因工艺处理产生的非对称型相位光栅对准标记作了详细分析,提出了关于衍射效率、对准信号及对准误差的计算模型,并着重分析了CMP型对准标记和金属淀积型标记的相应特点。

关键词：相位光栅、非对称型对准标记、衍射效率、对准信号、对准误差

所属期刊栏目：41

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2012-08-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：19-23