中微第二代等离子体刻蚀设备首次在中国试运安装;用于32～28nm芯片加工

摘要：

中微半导体设备有限公司（以下简称＂中微＂）于SEMICON China展会期间宣布,中微第二代等离子体刻蚀设备Primo AD-RIETM正式装配国内技术最先进的集成电路芯片代工企业中芯国际,用于32～28 nm及更先进的芯片加工。

关键词：刻蚀设备、等离子体、芯片加工、第二代、SEMICON、安装、试运、中国

所属期刊栏目：41

分类号：TN405(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2012-06-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：63-64