片盒清洗技术研究

摘要：

以晶片表面颗粒净增值为考量标准,研究了片盒清洗中清洗温度、干燥方式和活性剂对清洗工艺的影响,提出了较为理想的片盒清洗工艺条件。

关键词：颗粒净增、片盒清洗、温度、干燥

所属期刊栏目：41

分类号：TN305.2(半导体技术)

在线出版日期：2012-06-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：37-39