期刊专题

10.3969/j.issn.1004-4507.2012.04.007

蓝宝石抛光去除率试验的正交设计方法

引用
影响蓝宝石抛光去除率的因子有很多,为了得到最佳工艺流程和工艺参数组合,实际工作中需要在诸多影响因素中找出对去除率影响最显著的因子,并以拟合方程的形式来建立数学模型。探讨了运用正交试验的方法,通过MINITAB软件对试验数据进行分析,从而了解各抛光参数对抛光去除率的影响,最终确定一组最优的工艺参数。

正交试验、蓝宝石抛光、去除率

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TN305.2(半导体技术)

国家863项目2009AA043101

2012-06-17(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

29-32,58

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电子工业专用设备

1004-4507

62-1077/TN

41

2012,41(4)

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