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用于LED制造的EVG620HBL GenⅡ掩模对准系统

引用
EVG620HBL Gen Ⅱ是EVG用于高亮度发光二极管(HB-LED)批量生产的第二代全自动掩模对准系统。GenⅡ在发布第一代EVG620HBL的1年后推出,提供一个工具平台,主要用于满足HB-LED客户的特定需求,以及市场对降低总所有权成本的不断要求。

HB-LED、对准系统、掩模、高亮度发光二极管、制造、批量生产、全自动、第二代

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TN312.8(半导体技术)

2012-06-02(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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电子工业专用设备

1004-4507

62-1077/TN

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2012,41(3)

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