CMP系统真空供给系统设计

摘要：

研制了一套化学机械抛光机（CMP）专用的真空供给系统，主要由水环式真空泵、真空泵箱体、真空储气罐和水箱（汽水分离器）组成及控制模块组成。设计了水箱供水控制模块、水箱温度自动控制模块，通过控制水箱水温进而控制真空泵工作液的温度，保证真空度要求，同时也达到节约用水、降低能耗的要求。采用有限元分析软件ANSYS Workbench对真空供给系统机架进行了模态分析，研究机架的振型、固有频率，从而在结构设计上避免共振。

关键词：化学机械抛光、真空供给系统、温度自动控制、ANSYS、Workbench、模态分析

所属期刊栏目：41

分类号：TN948.43

资助基金：国家02重大专项2009ZX02011-005A

在线出版日期：2012-06-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：45-49