期刊专题

10.3969/j.issn.1004-4507.2011.12.004

硼扩散技术研究

引用
对硼扩散浓度和扩散深度的控制技术进行了研究。通过采用两步扩散步骤、预扩散采用双面扩散的方式、再分布采用密闭碳化硅管、控制扩散温度和扩散时间,有效地控制了扩散层浓度和结深。

硼、扩散浓度、扩散深度

40

TN305.4(半导体技术)

2012-04-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

12-14

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电子工业专用设备

1004-4507

62-1077/TN

40

2011,40(12)

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

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