化学腐蚀对超薄锗片机械强度的影响

摘要：

随着锗太阳能光伏产业的发展，锗抛光片得到了广泛的应用。机械强度对锗衬底抛光片的质量和成品率有着重要的影响，采用化学腐蚀工艺，通过酸碱腐蚀实验的开展以及腐蚀温度、腐蚀液配比的控制，确立了提高锗单晶片机械强度的化学腐蚀工艺，腐蚀后晶片表面均匀，磨削纹路清晰可见，TTV小于3μm，机械强度为31-40N，完全满足应用要求。

关键词：化学腐蚀、机械强度、超薄锗片

所属期刊栏目：40

分类号：TN305.2(半导体技术)

在线出版日期：2012-04-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：15-17