期刊专题

10.3969/j.issn.1004-4507.2011.07.004

面向硅片清洗技术的高浓度臭氧产生装置

引用
近来特大规模集成电路研发与生产的快速进展,硅片表面清洗至关重要。因此大连海事大学环境工程研究所采用强电离放电方法(折合电场强度达到380 Td,电子具有平均能量达到9 eV)研发成功国内首台具有知识产权dhO3g型系列高浓度臭氧产生器,其臭氧浓度达到240 mg/L。该装置具有自动化水平高,能耗低、体积小、高性价比等特点,并阐述了该装置的技术先进性及其技术指标。

臭氧、硅片清洗:强电离放电、性价比

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TN305(半导体技术)

国家863项目2008AA06Z317;国家自然科学基金项目20778028

2012-04-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

14-16

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电子工业专用设备

1004-4507

62-1077/TN

40

2011,40(7)

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
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