投影光刻中相位光栅对准标记变形解决方案

摘要：

描述了相位光栅对准法在步进重复投影光刻机中的运用,通过比较同轴对准系统和离轴对准系统的原理,工作过程,阐述了当对准标记产生变形时离轴对准系统能更好地修正偏差从而保证光刻工艺中套刻精度的要求.

关键词：对准系统、标记、相位光栅

所属期刊栏目：40

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2011-12-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：7-9,36