硅片湿法清洗工艺技术及设备发展趋势

摘要：

简要介绍了硅片湿化学清洗工艺技术及清洗设备结构技术,包括一些典型的槽体结构、干燥工艺技术等.并就清洗技术的发展需要,阐述未来清洗设备的发展趋势.

关键词：硅片、污染物、标准工业湿法清洗、槽式清洗、旋转甩干、单片旋转清洗

所属期刊栏目：40

分类号：TN305.97(半导体技术)

在线出版日期：2011-07-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：9-13,28