期刊专题

10.3969/j.issn.1004-4507.2011.03.008

碱性腐蚀工艺条件对硅片表面腐蚀形貌的影响

引用
碱性腐蚀工艺条件对硅片表面腐蚀形貌如粗糙度、显微镜下的表面状况的影响做了研究,通过实验结果给出了特定要求条件下硅片腐蚀的最佳方案.运用硅的化学腐蚀机理分析了表面腐蚀状况的原因.

腐蚀、表面形貌、硅片

40

TN305.2(半导体技术)

2011-07-19(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

28-30

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电子工业专用设备

1004-4507

62-1077/TN

40

2011,40(3)

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