10.3969/j.issn.1004-4507.2011.03.008
碱性腐蚀工艺条件对硅片表面腐蚀形貌的影响
碱性腐蚀工艺条件对硅片表面腐蚀形貌如粗糙度、显微镜下的表面状况的影响做了研究,通过实验结果给出了特定要求条件下硅片腐蚀的最佳方案.运用硅的化学腐蚀机理分析了表面腐蚀状况的原因.
腐蚀、表面形貌、硅片
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TN305.2(半导体技术)
2011-07-19(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
28-30
10.3969/j.issn.1004-4507.2011.03.008
腐蚀、表面形貌、硅片
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TN305.2(半导体技术)
2011-07-19(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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