掩模光刻机中找平控制研究

摘要：

基片与掩模版(或找平版)找平技术是掩模光刻机中的一个关键技术,找平的结果直接决定了光刻机的分辨率精度.找平的目的就是要实现掩模版平面和基片平面的平行,实现基片与掩模版在移动到设定的一个微小间隙后,基片上的各点到掩模版的距离相同,从而保证基片上图形的一致性,提高设备的分辨率.找平过程的控制主要在对找平的判断、压力采集反馈、找平压力的控制等方面.

关键词：掩模光刻机、找平、分辨率、找平判断、压力采集、找平压力控制

所属期刊栏目：39

分类号：TN305(半导体技术)

在线出版日期：2011-03-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1-3,30