化学机械抛光压力控制技术研究

摘要：

概述了化学机械抛光技术的发展现状,讨论分析了主要工艺参数对抛光机理的影响.重点论述了化学机械抛光工艺中不同压力控制方法及其技术特点,提出了一种新的压力控制方案.并通过实验验证了该控制技术的先进性.

关键词：化学机械抛光、抛光机理、压力控制

所属期刊栏目：39

分类号：TN305.2(半导体技术)

资助基金：国家863项目200956KY02

在线出版日期：2010-12-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：9-13,22