硅抛光片表面质量测试技术综述

摘要：

随着硅抛光片尺寸逐渐增大,硅抛光片表面质量测试逐步被人们所关注.表面金属离子含量以及表面颗粒度成为衡量硅抛光片表面质量的重要指标,对表面金属离子含量以及表面颗粒度的测试原理以及设备进展进行了介绍.

关键词：硅、表面颗粒度、全反射荧光谱

所属期刊栏目：39

分类号：TN307(半导体技术)

在线出版日期：2010-10-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：9-10,38