期刊专题

10.3969/j.issn.1004-4507.2009.11.007

半导体材料加工过程的化学方法应用

引用
在半导体材料的加工过程中,很多重要步骤都涉及到了化学作用,讨论了半导体材料加工过程中化学缓蚀、化学机械抛光和清洗步骤的化学作用原理,介绍了从化学角度分析和优化半导体加工工艺的观点.

半导体材料、缓蚀、化学机械抛光、清洗

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TN304.5(半导体技术)

2010-01-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

32-34,45

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电子工业专用设备

1004-4507

62-1077/TN

38

2009,38(11)

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