10.3969/j.issn.1004-4507.2009.11.007
半导体材料加工过程的化学方法应用
在半导体材料的加工过程中,很多重要步骤都涉及到了化学作用,讨论了半导体材料加工过程中化学缓蚀、化学机械抛光和清洗步骤的化学作用原理,介绍了从化学角度分析和优化半导体加工工艺的观点.
半导体材料、缓蚀、化学机械抛光、清洗
38
TN304.5(半导体技术)
2010-01-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
32-34,45
10.3969/j.issn.1004-4507.2009.11.007
半导体材料、缓蚀、化学机械抛光、清洗
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TN304.5(半导体技术)
2010-01-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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