真空磁控溅射镀膜设备及工艺技术研究

摘要：

磁控溅射技术在薄膜制备领域广泛应用,适合的工艺和制造技术对磁控溅射镀膜有着重要的影响.介绍了用于薄膜电路的生产工艺流程以及由此而决定的设备组成及控制技术,并重点叙述了薄膜制备的方法、参数选择、设备设计方法.

关键词：磁控溅射、镀膜工艺、设备

所属期刊栏目：38

分类号：TP2(自动化技术及设备)

在线出版日期：2010-01-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：27-31