选择性抛光液的研究

摘要：

抛光液是化学机械平坦化的关键耗材.而针对STI和铜线的抛光,通常使用选择性抛光液.采用二氧化铈作为研磨颗粒的第二代抛光液,具有自动停止的特点,配合粗抛和精抛,能够十分有效解决目前STI存在的工艺缺点.而针对铜线的抛光,介绍了有机物作为研磨颗粒的抛光液.具备十分卓越的选择比,高产出和低缺陷,将是今后重点发展的产品类型之一.

关键词：化学机械抛光、浅沟道隔离、抛光液、二氧化铈、有机物

所属期刊栏目：38

分类号：TN305.2(半导体技术)

在线出版日期：2009-07-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：36-39