10.3969/j.issn.1004-4507.2009.05.003
铜丝键合工艺研究
讲述了铜丝键合的优点,列举了铜丝在键合工艺中制约制程的瓶颈因素有两个方面:一是铜丝储存条件对环境要求高,使用过程保护措施不当易氧化;二是铜丝材料特性选择、制具选择、设备键合参数设置不当在生产制造中易造成芯片焊盘铝挤出、破裂、弹坑等现象发生,最终导致产品电性能及可靠性问题而失效.本文通过对铜丝键合机理分析,提出解决、预防及管控措施,制定了具体的生产管控工艺方案,对实现铜丝键合工艺有很好的指导意义.
铜丝、键合、弹坑、工艺方案
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TN305(半导体技术)
2009-07-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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